用途:防止炭化在高电流密度; 提高镀金属在高电流密度的延展性; 提高整个范围内的电流密度电镀的亮度; 与非离子和阴离子表面活性剂配合使用效果比较好; 是低发泡型的; 能抑制泡沫的形成,尤其和Lugalvan NES配合使用时; 和Lugalvan tc-bar配合使用时增溶作用可以和Pluriol E400和E600相媲美; 对电镀液的浊点没有影响。
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